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第516章 马不停蹄

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到了这年纪,对物质方面没什么追求,只想尽快迎头追赶,避免进一步落后。

吃饭期间。

见倪老想去参观尼康和佳能的光刻机生产线,苏业豪这时候点点头,告诉说:

“行吧,如果以客户身份登门,应该没什么问题。我从资料上看见过,现在光刻机卡在193纳米的技术门槛上,如果能押对下一代技术,是不是有希望弯道超车?”

席间喝了点原住民自酿的红枣米酒,这玩意儿喝起来很舒服,可一杯接一杯没个准数,一不小心就多了,也挺上头。

别人费尽心思帮忙省钱,苏业豪总不能不领情。

虽然自己组建生产线需要耽误一段时间,可既然已经比良想集团慢了许多年,早一点或者迟一点,也就无所谓了。

这支团队最近在岛上,主要负责谈零部件的采购事宜,过来十多天,基本谈得差不多。

接下来还要去一趟曰本,那边的半导体产业也挺发达,尼康和佳能这两家公司依然是光刻机行业的主流,倪老先生希望过去参观一下。

早些年时候。

倪老面色微红,听完笑着开口:

“理论上是这样,不过现在谁都不清楚出路究竟在哪。”

“我看过一些相关的论文,目前市场上主流的研发思路,都是在157nm的干式光刻技术路径上,佳能、尼康都在往这方面尝试。”

“另外,还有一项新的理论挺有意思,一位华裔越南科学家叫做林宝坚,他提出用水作为曝光介质,光源波长还是用原来的193nm,但通过水的折射,让进入光阻的波长缩小到134nm,起名叫做浸没式,我在杂志上看见过。”

国内光刻机并不算太差,1980年就有大学研制出第四代分部式投影光刻机,光刻精度达到三微米,接近国际主流水平。

而那时,光刻机巨头asml还没诞生。

后来研发更先进的光刻机的门槛慢慢增加,对资金方面的需求也越来越多。

因为种种原因,现如今国内的半导体行业已经彻底落后,尤其是尖端半导体,排在前列的公司名单里,几乎看不到内地企业的身影。

倪老先生从那个年代过来,看看良想每年采购花掉多少钱,再看看国产零部件占比究竟有多少,就知道不能再继续坐视不理。

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